แหล่งจ่ายไฟ RF สำหรับ PECVD
ระบบ PECVD ประกอบด้วยเตาหลอมแบบท่อ ห้องสุญญากาศควอตซ์ ระบบสุญญากาศ ระบบจ่ายก๊าซ และระบบจ่ายพลังงานคลื่นความถี่วิทยุ ส่วนใหญ่ใช้สำหรับ: การเจริญเติบโตของฟิล์มบางโลหะ ฟิล์มบางเซรามิก ฟิล์มบางคอมโพสิต กราฟีน และอื่นๆ สามารถเพิ่มฟังก์ชันต่างๆ ได้ง่าย และสามารถขยายฟังก์ชันต่างๆ เช่น การทำความสะอาดพลาสมาและการกัด ระบบ PECVD มีข้อดีคืออัตราการสะสมฟิล์มสูง ความสม่ำเสมอที่ดี ความสม่ำเสมอสูง และความเสถียรสูง
พารามิเตอร์ทางเทคนิคหลักของแหล่งจ่ายไฟ RF:
ช่วงกำลังขับ | 0-500 วัตต์ |
กำลังสะท้อนสูงสุด | 200 วัตต์ |
ความถี่ในการทำงาน | ความถี่: 13.56 เมกะเฮิรตซ์ ±0.005% |
เสถียรภาพด้านพลังงาน | +/-0.1% |
ส่วนประกอบฮาร์มอนิก | ≤-50dbc |
ความกว้างของภูมิภาค Rf | ปรับได้ 0-600 มม. |
วิธีจับคู่ | อัตโนมัติ |
โหมดทำความเย็น | จุดเย็น |
เสียงรบกวน | <50เดซิเบล |
อินเทอร์เฟซความถี่วิทยุ | ชนิด N 50Ω |
กำลังไฟเข้า | 208-240V 50/60HZ |
1 บรรจุภัณฑ์ส่งออกมาตรฐาน: การป้องกันการชนภายใน บรรจุภัณฑ์กล่องไม้สำหรับส่งออกภายนอก
2. จัดส่งโดยด่วน ทางอากาศ ทางทะเล ตามความต้องการของลูกค้าเพื่อค้นหาวิธีที่เหมาะสมที่สุด
3. รับผิดชอบความเสียหายในระหว่างกระบวนการจัดส่ง จะเปลี่ยนชิ้นส่วนที่เสียหายให้คุณฟรี
